광섬유 격자 소자 기술
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작성일 22-12-01 08:29
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그림 3. 위상 마스크를 이용한 광섬유 격자 제작
따라서 0차 회절된 빛은 위상 마스크의 골과 마루사이만큼의 위상차를 가져야 한다. 위상 마스크 이용법 (Phase Mask Method)
1993년 Hill 등과 Anderson 등은 위상 마스크를 이용하여 격자를 새기는 새로운 방법을 동시에 발표하였다. 위상 마스크는 일종의 회절 광학 소자 (Diffractive Optical Element)로서, 격자 형성용 UV 빛을 통과시켜 공간에 따른 위상차를 유도하여 UV 빛의 간섭무늬를 광섬유 코어 내에 형성시키도록한 간섭형 마스크이다.
홀로그래픽 방법과 비교할 때 위상 마스크를 사용하는 방법은 격자 형성용 UV 빛의 …(투비컨티뉴드 )
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다. 위상 마스크를 이용하여 광섬유 격자를 제작한 경우의 브래그 파장 (Bragg)과 위상 마스크의 골 간격사이 (PM) 의 관계는 다음과 같다. 위상 마스크는 그림 3과 같이 마스크의 골의 깊이(DPM) 를 조절함으로써 위상 마스크에 수직으로 인가된 UV 빛의 0차 회절은 수 % 이내로 하고, 1차 회절을 최대로 하여 이 빛들을 이용하여 광섬유의 코어에서 간섭을 일으킨다.
여기서, nUV는 입사되는 UV 빛에 대한 위상 마스크의 굴절률, λ는 UV 빛의 파장을 나타낸다.
